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ALD-150LE™原子層沉積系統(tǒng)產(chǎn)品參數(shù)
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ALD-150LE™原子層沉積系統(tǒng)詳細(xì)信息
ALD-150LE™原子層沉積系統(tǒng)是極其靈活的原子層沉積 （ALD） 系統(tǒng)，專為入門級(jí)到中級(jí)用戶而設(shè)計(jì)。該ALD150LE™配置為純熱原子層沉積，工藝室設(shè)計(jì)促進(jìn)了均勻的母離子分散和輸送。加熱和溫度控制進(jìn)一步增強(qiáng)了系統(tǒng)性能?？傮w而言，該ALD150LE™在緊湊的設(shè)計(jì)中提供了的靈活性和性能，而不會(huì)犧牲可維護(hù)性。
ALD-150LE™原子層沉積系統(tǒng)配置為純熱原子層沉積，我們的垂直流設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)分離、均勻的前驅(qū)體輸送，同時(shí)降低背景雜質(zhì)水平，從而提高薄膜質(zhì)量。為避免不必要的材料在輸送通道內(nèi)積聚和顆粒形成，有兩個(gè)獨(dú)立的腔室入口可用于前驅(qū)體分離。例如，可以使用單獨(dú)的入口來(lái)分離金屬有機(jī)前體和共反應(yīng)物，以防止在輸送管線和閥門中沉積。
兩個(gè)獨(dú)立的進(jìn)樣口，用于前驅(qū)體輸送，可防止輸送通道中不必要的積聚
開(kāi)放式裝載室經(jīng)過(guò)精心設(shè)計(jì)，可最大限度地減少由于密封脫氣和滲透引起的背景雜質(zhì)
獨(dú)立的基板加熱器平臺(tái)和外腔殼體，可實(shí)現(xiàn)出色的溫度控制和均勻性
304L不銹鋼結(jié)構(gòu)
可訪問(wèn)、低維護(hù)的設(shè)計(jì)
ALD150LE™開(kāi)路負(fù)載設(shè)計(jì)允許在樣品引入過(guò)程中將基物（直徑最大為 150 mm）直接放置在基板加熱器臺(tái)上。在隨后的原子層沉積（ALD）處理過(guò)程中，集中式母離子輸送和泵送建立了一個(gè)屏障，將下游腔室密封的雜質(zhì)擋在反應(yīng)區(qū)之外。彈性體腔密封件在下游的戰(zhàn)略定位可使雜質(zhì)（由于密封件釋氣和滲透）遠(yuǎn)離基材表面，從而提高 ALD 薄膜質(zhì)量。特別是，這是在開(kāi)放式負(fù)載室設(shè)計(jì)中獲得高質(zhì)量氮化物膜的一個(gè)重要特征。
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