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Beneq P400A ALD原子層沉積系統(tǒng)專為不同類型的基材進(jìn)行優(yōu)化批次尺寸的涂層而設(shè)計(jì)——體積足夠大以提供顯著容量，同時(shí)又足夠小以保持批次間優(yōu)異的均勻性和短周期。我們的客戶使用P400A用于光學(xué)涂層以及ALD在玻璃或金屬板上的應(yīng)用。

Beneq P400A ALD原子層沉積系統(tǒng)特點(diǎn)：

批次ALD

大小剛好。Beneq P400A 通常用于直徑從 20mm 到 300mm 不等的批次基底。批量配置可針對(duì)特定零件、片材、晶圓或其他基底進(jìn)行優(yōu)化。

設(shè)計(jì)與設(shè)置

每個(gè)客戶都是不同的。讓我們?yōu)槟x擇并設(shè)計(jì)適合基材和應(yīng)用的最佳工具配置和ALD工藝。

P400A的多功能設(shè)計(jì)使其可以輕松切換不同的反應(yīng)室和基底支架。這意味著你可以用同一套ALD系統(tǒng)順利從研發(fā)過渡到批量生產(chǎn)。Beneq提供定制化的應(yīng)用開發(fā)和試點(diǎn)生產(chǎn)支持，讓你在建立自己的ALD生產(chǎn)能力前先測(cè)試。

厚膠片堆疊

厚膠片堆（> 1微米）的理想ALD工具。大批量厚膜堆棧需要大量前驅(qū)物，同時(shí)產(chǎn)生大量殘?jiān)透碑a(chǎn)物。為應(yīng)對(duì)這些挑戰(zhàn)，P400A配備了高容量前驅(qū)體源及前驅(qū)體去活化過濾系統(tǒng)。

經(jīng)過35+年工業(yè)生產(chǎn)的開發(fā)成果，采用大量>1微米厚的膠片堆，Beneq P400A全天候可靠可靠。

前身

氧化物、氮化物、硫化物、金屬等。選擇合適的工藝和前體材料可能很棘手。什么時(shí)候使用高溫和低溫？前驅(qū)體材料使用安全嗎？

請(qǐng)我們的專家?guī)湍业竭m合您應(yīng)用的材料或材料組合。Beneq P400A可從室溫升至550°C，輕松處理氣體、液體和固體前驅(qū)物，包括有毒、易燃和腐蝕性前驅(qū)物。

維護(hù)

維護(hù)更簡(jiǎn)單，維護(hù)頻率也更低。ALD工具沉積厚厚的膠片堆通常需要每月清潔。P400A的高容量泵管過濾網(wǎng)使該工具即使在大規(guī)模生產(chǎn)中也能連續(xù)運(yùn)行數(shù)月而無需維護(hù)。

更換ALD反應(yīng)室可能需要一整天時(shí)間，因?yàn)樾枰鋮s，但P400A能將時(shí)間縮短到幾分鐘。其設(shè)計(jì)允許簡(jiǎn)單地拉出反應(yīng)室及其他需要清潔的部件。

多室設(shè)計(jì)

避免維護(hù)帶來不必要的停機(jī)時(shí)間。Beneq P400A 使用多個(gè)反應(yīng)室，每次運(yùn)行間持續(xù)切換。這可以最大限度地減少維護(hù)相關(guān)的生產(chǎn)停機(jī)時(shí)間。

預(yù)熱烤箱

Beneq的專有預(yù)熱器?？蛇x的預(yù)熱烤箱縮短加熱時(shí)間，進(jìn)一步提升您的產(chǎn)量。