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| 面議 |
SENTECH
生產(chǎn)廠家
199
國外德國
2026/3/11 10:27:28
產(chǎn)品簡介
| 價格區(qū)間 | 面議 | 應用領域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,航空航天,綜合 |
SI PEALD等離子體增強原子層沉積系統(tǒng)能夠在低溫下均勻且貼合地涂層敏感基底和層。樣品表面提供高通量的反應性氣體，無需紫外線或離子轟擊。
SI PEALD等離子體增強原子層沉積系統(tǒng)主要特點與優(yōu)勢
PEALD用于敏感基底
SENTECH SI PEALD系統(tǒng)采用真正的遠程等離子源，能夠在低溫<100°C下均勻且貼合地覆蓋敏感基底和層層。 樣品表面提供高通量的活性氣體，無需紫外線或離子轟擊。
原子層沉積（ALD）用于精確、共形和均勻沉積
ALD沉積技術的特點是能夠在原子層面精確控制厚度，沉積出共形和均勻薄膜，并且在半導體器件如高介電材料沉積中持續(xù)發(fā)揮重要作用。ALD的主要應用包括傳感器、光電子學和二維材料。
工藝開發(fā)與優(yōu)化的原位診斷
AL實時監(jiān)測儀的原位診斷實現(xiàn)了單次ALD循環(huán)的超高分辨率。其優(yōu)勢包括確認ALD制度、縮短處理時間以及整體擁有成本。光譜橢偏儀也作為原位診斷技術提供，對我們的原子層沉積系統(tǒng)具有特殊優(yōu)勢。
輕松清理反應堆
定期清洗反應堆對于穩(wěn)定且可重復的原子層沉積處理至關重要。通過提升裝置，反應堆室可以輕松打開，用于清潔我們的原子層沉積系統(tǒng)。
集群積分
原子層沉積系統(tǒng)作為SENTECH集群工具的模塊提供。我們的原子層沉積系統(tǒng)可與SENTECH的PECVD和蝕刻系統(tǒng)結合，應用于工業(yè)應用。集群工具可選支持磁帶到磁帶加載。
手套箱系統(tǒng)集成
SENTECH ALD系統(tǒng)兼容多家供應商的手套箱。
關聯(lián)品牌
SENTECH在全球為研發(fā)和工業(yè)生產(chǎn)社區(qū)開發(fā)、制造和營銷創(chuàng)新資本設備方面擁有超過30年的經(jīng)驗。我們強大的系統(tǒng)專注于半導體技術、微系統(tǒng)技術、光伏、納米技術和材料研究中的薄膜沉積、圖案化和表征。SENTECHInstruments成立于1990年，總部位于柏林-阿德勒斯霍夫。我們所有的系統(tǒng)和工具都是從我們的柏林工廠開發(fā)、制造和運往全球的。我們的應用、研發(fā)、技術服務和銷售專家團隊位于柏林。SENTECH不斷努力擴大其產(chǎn)品組合以及全球銷售和服務網(wǎng)絡。該公司近年來經(jīng)歷了顯著的增長，現(xiàn)在擁有120多名員工。為了滿足客戶對我們系統(tǒng)日益增長的需求，我們投資擴大了生產(chǎn)能力，在柏林-...
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