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ACU20FDH-LH沉積設(shè)備用高溫分體氣體流量控制器及流量計PX 4818
Korvus PVD clusterPVD多腔室互聯(lián)系統(tǒng)PX 2089
FPANR-AT410ALD系統(tǒng)PX 3895
PLUTO-MC真空等離子體涂覆薄膜沉積設(shè)備PX 5538
SMART磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 4615
CVTD 材料氣相輸運(yùn)與沉積系統(tǒng)PX 2425
uGmni-200/300日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體濺射設(shè)備單晶圓復(fù)合PX 5577
KaRoll RTR1C卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)PX 2302
Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器PX 2624
FPGEOL-PFG-03C-filmroll全色激光全息膜卷PX 0
Korvus HEXPVD薄膜沉積系統(tǒng)PX 2089
FPANG-COVAPCOVAP物理氣相沉積系統(tǒng)PX 3895
FPANG-AMOD多功能物理氣相沉積平臺PX 3895
FPTOR-IBD離子束沉積系統(tǒng)PX 3895
FPCTE-Play-ALD等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)PX 3895
PVD500高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 4615
PVD400高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 4615
SV-200 SV-4540 SV-6040日本ULVAC愛發(fā)科大型設(shè)備濺射SV-9045PX 5577
Roll to Roll Sputtering卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)PX 2302
HVD-1800 Series部件鍍膜設(shè)備PX 2302
For Half Mirror Coating部件鍍膜設(shè)備PX 2302
KaLine 8V部件鍍膜設(shè)備PX 2302
OCTOS™自動薄膜沉積簇工具PX 2302
Propel HVM GaN金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積PX 2302
Lumina AS/P金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 2302
NEXUS IBD離子束沉積設(shè)備PX 2302
ESC-101新型離子槍PX 2302
SMART蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 2302
AL-1無針孔薄膜沉積設(shè)備PX 2302
Mini E-Beam Evaporator小型電子束蒸發(fā)器PX 2624
Nikalyte NL-UHV超高真空納米顆粒沉積源PX 2624
Nikalyte NL-50磁控濺射儀PX 2624
FPKOR-HEX-PVD臺式薄膜沉積系統(tǒng)PVD系統(tǒng)PX 0
MEB-600/800熱阻/電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)設(shè)備PX 0
MSP-300/400/5100/6200磁控濺射鍍膜設(shè)備PX 0
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
PVD多腔室互聯(lián)系統(tǒng)
PVD薄膜沉積系統(tǒng)
磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器
Mini E-Beam Evaporator小型電子束蒸發(fā)器
Nikalyte NL-UHV超高真空納米顆粒沉積源
真空等離子體涂覆薄膜沉積設(shè)備
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體濺射設(shè)備單晶圓復(fù)合
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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