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什么是光罩？
光罩是一種用于半導(dǎo)體和液晶顯示器制造的主板，用于將細(xì)微的電路圖案轉(zhuǎn)移到基板上。
根據(jù)制造代數(shù)不同，光學(xué)/DUV使用透射型，極紫外（EUV）使用反射型。 DUV曝光掩膜由石英玻璃基板和鉻薄膜組成，而極紫外曝光掩膜由超平坦硅基板和多層反射膜和吸收層組成。 通過照射光線通過曝光裝置，電路圖案被準(zhǔn)確地轉(zhuǎn)移到光阻薄膜上。
隨著半導(dǎo)體器件日益微型化，光掩膜發(fā)揮著極其重要的作用。 尤其是在需要高精度缺陷控制和均勻薄膜厚度的尖d端半導(dǎo)體工藝中，極紫外曝光掩膜已成為主流。 另一方面，10nm之前的DUV曝光掩膜也被廣泛使用。
光罩的用途
光罩廣泛應(yīng)用于需要細(xì)致圖案的行業(yè)。 代表性申請如下。
1. 半導(dǎo)體
集成電路、存儲器和處理器的制造需要多層，每層都使用專用光罩來形成。 通過使用高精度掩膜，確保線寬均勻和對準(zhǔn)精度，實現(xiàn)尖d端器件的大規(guī)模生產(chǎn)。
2. 展示
光罩用于形成液晶面板和OLED顯示器的像素結(jié)構(gòu)。 高分辨率顯示器需要細(xì)膩且均勻的圖案，而遮罩的質(zhì)量直接影響圖像質(zhì)量和耐久性。 兼容大型電路板的遮罩在顯示行業(yè)中不可h或缺。
3. MEMS
加速度計和壓力傳感器等MEMS設(shè)備需要在硅基板上形成精細(xì)結(jié)構(gòu)。 通過結(jié)合光刻和光掩膜蝕刻技術(shù)，可以高精度地構(gòu)建精細(xì)復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)。
4. 太陽能電池
光罩用于硅基和薄膜太陽能電池制造中的電極圖案形成。 均勻的圖案形成提高了發(fā)電效率，并帶來了長期可靠性的提升。 特別是高精度掩膜對于開發(fā)高效電池至關(guān)重要。
