1. FE 系列（FE-300/3700/5700/5000） —— 獨(dú)立臺式 / 離線膜厚儀（你說的 Stand-alone 膜厚測定機(jī)）

2. LS 線掃描系列 —— 離線 / 在線大面薄膜測厚，有時也被混稱為 TE

一、FE 系列（Stand-alone 臺式膜厚儀，常被稱為 TE）

1）FE-300 系列（入門通用型）

• FE-300V：標(biāo)準(zhǔn)型（Vis 可見光）

• FE-300UV：紫外增強(qiáng)型

• FE-300NIR：近紅外厚膜型

• 測量原理：反射分光干涉 + **反射率分析

• 膜厚范圍：

• FE-300UV：1 nm ~ 30 μm

• FE-300V：3 nm ~ 50 μm

• FE-300NIR：16 nm ~ 300 μm

• 波長：

• UV：230–800 nm

• VIS：360–1100 nm

• NIR：900–1600 nm

• 單點(diǎn)測量時間：≤1 s

• 光斑：φ20 μm

• 可解析層數(shù)：*多 10 層

• 尺寸：臺式小型機(jī)，約 350×450×200 mm

• 200 mm 晶圓量產(chǎn)抽檢：SiO?、SiN、光刻膠（PR）、多晶硅厚度

• R&D 小批量：實(shí)驗(yàn)室離線測厚、工藝條件篩選

• 封裝 / 載板：干膜、阻焊層、PI 膜、環(huán)氧樹脂層

• 化合物半導(dǎo)體：GaAs、InP 上介質(zhì)膜 / 金屬膜厚

2）FE-3700 / FE-5700（高精度、自動化型）

• 波長：230–1700 nm（UV–NIR 寬帶）

• 膜厚：1 nm ~ 500 μm

• 重復(fù)性：≤±0.05 nm（超薄膜）

• 平臺：全自動 XYθ 平臺（300 mm 兼容）

• 映射：2D/3D 厚度分布圖

• 層數(shù)：*多 20 層解析

• 300 mm 晶圓廠離線質(zhì)檢：CMP 后氧化層殘留、STI 淺溝槽、ILD 層間介質(zhì)

• 光刻工藝：PR 膜厚 + 均勻性檢測（曝光前 / 后）

• 超薄高 k 介質(zhì)：幾 nm–幾十 nm HfO?、Al?O? 等

• 功率器件：厚場氧、鈍化膜、外延層測厚

3）FE-5000 / 5000S（光譜橢偏，**膜厚 / 光學(xué)常數(shù)）

• 測量方式：光譜橢偏 + 反射率

• 波長：190–1700 nm

• 膜厚：0.1 nm ~ 500 μm

• 可測：膜厚 + 折射率 n + 消光系數(shù) k

• 自動變角：45°–90° 自動入射角

• 解析能力：多層膜、梯度膜、超晶格