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QDR Valve
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更新時(shí)間:2026-04-28 17:52:16瀏覽次數(shù):77次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 化工儀器網(wǎng)日本巴閥門tomoevalve 氣動(dòng)對(duì)夾蝶閥
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
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韓國(guó) INNODIS QDR 耐腐蝕氣動(dòng)止回閥
INNODIS QDR 系列是專為高純腐蝕介質(zhì)設(shè)計(jì)的氣動(dòng)驅(qū)動(dòng) + 單向密封止回閥,結(jié)合 PFA 全氟材質(zhì)與氣動(dòng)輔助復(fù)位,在半導(dǎo)體、化工藥液管路中實(shí)現(xiàn)可靠防回流、防虹吸、防水錘,兼容自動(dòng)化聯(lián)鎖控制,是高純流體系統(tǒng)安全防護(hù)的關(guān)鍵閥件。
韓國(guó) INNODIS QDR 耐腐蝕氣動(dòng)止回閥
核心產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)
PFA 通體耐腐,高純低析出
閥體、閥瓣、密封件均為高純 PFA,耐受、強(qiáng)酸強(qiáng)堿、臭氧、有機(jī)溶劑等強(qiáng)腐蝕介質(zhì);材質(zhì)低溶出、低吸附、無(wú)顆粒釋放,符合半導(dǎo)體超凈制程與高純度化學(xué)品輸送要求。
氣動(dòng)輔助單向密封,零泄漏防回流
采用氣動(dòng)復(fù)位 + 介質(zhì)自驅(qū)雙重密封機(jī)制:正向介質(zhì)壓力開啟,反向時(shí)氣動(dòng)彈簧 + 介質(zhì)背壓雙向壓緊密封面,零泄漏阻斷回流;內(nèi)置 Mega Lock 密封結(jié)構(gòu),密封力均勻、抗疲勞,長(zhǎng)期運(yùn)行無(wú)滴漏。
自動(dòng)防回流 + 自動(dòng)化兼容,安全聯(lián)鎖
無(wú)需人工干預(yù),介質(zhì)流向自動(dòng)啟閉,防止泵反轉(zhuǎn)、介質(zhì)倒灌與交叉污染;氣動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)可接入 PLC 系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程監(jiān)控、報(bào)警聯(lián)鎖,適配半導(dǎo)體 Fab 與化工自動(dòng)化產(chǎn)線。
高潔凈,易清洗免維護(hù)
流路直通無(wú)滯留、死區(qū)極小,內(nèi)壁光滑不易結(jié)垢結(jié)晶,適配 CIP 在位清洗;無(wú)填料、無(wú)外漏,長(zhǎng)期免維護(hù),降低高純系統(tǒng)污染風(fēng)險(xiǎn)與運(yùn)維成本。
工況適配廣,結(jié)構(gòu)緊湊易安裝
工作溫度 -20~180℃,工作壓力 0~0.6MPa,兼容冷熱交替與中高壓藥液管路;緊湊型設(shè)計(jì),標(biāo)準(zhǔn)入珠 / 法蘭接口,安裝空間小、拆裝便捷。
典型應(yīng)用場(chǎng)景
半導(dǎo)體濕法制程(核心)
晶圓蝕刻 / 清洗 / 剝離設(shè)備:HF、HCl、NaOH、氨水等腐蝕藥液管路防回流、防虹吸。
集中化學(xué)品供給系統(tǒng):支路切斷與防倒灌保護(hù),避免不同藥液交叉污染。
超純水(UPW)與臭氧水回路:防水錘、防倒流,保障高純水質(zhì)穩(wěn)定。
化工精細(xì)流體輸送
精細(xì)化工反應(yīng)釜 / 儲(chǔ)罐出口:高純?cè)噭?、催化劑、?qiáng)氧化介質(zhì)防回流,保護(hù)設(shè)備與制程安全。
酸堿廢液 / 廢氣洗滌塔管路:腐蝕廢液?jiǎn)蜗蚋綦x,防止倒灌污染上游系統(tǒng)。
光電 / 光伏行業(yè)
顯示面板 / 光伏電池片濕制程:腐蝕液、清洗液、剝離液管路防倒流,保障制程一致性與良率。
高純水與制藥輔助系統(tǒng)
制藥注射用水(WFI)、純蒸汽回路:無(wú)菌防回流,符合 GMP 與 FDA 認(rèn)證要求。
實(shí)驗(yàn)室高純?cè)噭┕苈罚喝?/ 旁路防倒流,防止污染試劑源。
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