韓國INNODIS半導體流體控制模塊閥核心產(chǎn)品優(yōu)勢

高純 PFA 一體成型， 耐腐蝕與低溶出

閥體與隔膜均采用高純 PFA（全氟烷氧基樹脂），整體無金屬接觸，可長期耐受 HF、硝酸、硫酸、TMAH、磷酸 等強腐蝕藥液；金屬離子析出極低，滿足半導體 UPW/Class 1 超凈要求。

多通道集成設(shè)計，大幅簡化管路、減少污染風險

單閥組集成 2–8 通道，替代傳統(tǒng)多閥分散布局；焊縫 / 接頭減少 70%+，降低泄漏與顆粒污染點；一體成型流路、死區(qū)極小 ，避免介質(zhì)殘留與交叉污染。

高潔凈零泄漏，長壽命穩(wěn)定運行

內(nèi)部鏡面拋光、低顆粒釋放；PFA 隔膜 + 專用密封結(jié)構(gòu)，開關(guān)零泄漏、無殘留；氣動驅(qū)動可高頻循環(huán)（500 萬次 +），抗疲勞、壽命長，降低維護成本。

結(jié)構(gòu)緊湊模塊化，節(jié)省空間且易安裝維護

相比分散閥組節(jié)省 50% 安裝空間；標準化接口（入珠 / 擴口 / 外螺紋），即插即用； 便于 CIP 在線清洗，減少停機時間。

自動化適配強，支持定制化流路

氣動執(zhí)行機構(gòu)支持 PLC 遠程控制，響應快、可無縫集成半導體自動化產(chǎn)線；流路可定制（混流 / 分流 / 切換），適配不同工藝需求。

韓國INNODIS半導體流體控制模塊閥典型應用場景

半導體濕法工藝（核心場景）

晶圓清洗 / 蝕刻機臺：HF、SC-1/SC-2、磷酸、TMAH 等藥液的多路切換、分配、混合控制。

化學品集中供給系統(tǒng)：高純酸 / 堿 / 有機溶劑的分支分配、回路切換、取樣控制。

CMP 漿料 / 超純水（UPW）：低吸附、低顆粒輸送，保障制程良率。

顯示面板（LCD/OLED）制程

玻璃基板ITO 蝕刻、顯影、剝膜：TMAH、蝕刻液、清洗液的多通道精準分配與切換。

光伏與新能源濕法制程

硅片制絨 / 清洗：HF/HNO? 混合酸、堿清洗液的多路分流、切換、廢液切斷控制。

高純化工與制藥

精細化工：高純試劑、催化劑的多通路分配與隔離。

制藥：無菌緩沖液、高純度溶劑的無交叉污染流體控制。

超純水與廢液處理系統(tǒng)

半導體廠 UPW 循環(huán)、支路分配、末端輸送。

腐蝕性廢液 / 廢氣噴淋管路的自動切斷與分流控制。