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靶材材質	金	靶材尺寸	Ф50*0.1mm
產地類別	國產	價格區(qū)間	1-5萬
濺射氣體	氬氣或空氣	控制方式	手動
樣品倉尺寸	160*110mm	樣品臺尺寸	Ф50mm
應用領域	化工,生物產業(yè),地礦,航空航天,綜合	適用靶材	金、鉑、銀、氧化鋅

JS-1600小型離子濺射儀采用成熟穩(wěn)定的二極（DC）直流濺射原理設計，以簡潔操作、可靠性能與靈活適配性，成為掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備、非導體材料實驗電極制作的理想配套設備。儀器兼顧實驗室桌面使用需求與大樣品處理能力，從基礎科研到常規(guī)檢測場景均可穩(wěn)定勝任，為高質量導電鍍膜與薄膜沉積提供標準化解決方案。

核心設計與應用優(yōu)勢

該設備以直流二極濺射為核心工作機制，在真空環(huán)境下通過電場加速離子轟擊靶材，使金屬原子均勻沉積于樣品表面，形成致密、連續(xù)、導電性能優(yōu)異的薄膜。整機操作流程簡化，無需復雜調試，用戶可根據(jù)實驗要求自主設定真空條件與濺射電流，快速獲得穩(wěn)定可重復的鍍膜效果。大尺寸真空腔體是該設備的突出亮點，有效突破常規(guī)小型設備的樣品尺寸限制，滿足大樣品濺射需求，大幅提升實驗通量與適用范圍。設備標配一片99.999% 超高純金靶，從源頭保障膜層純度與成膜質量，為 SEM 成像、電極制備等關鍵環(huán)節(jié)提供高品質基礎條件。

關鍵技術指標

靶材（上部電極）：標配高純金靶，直徑 50mm、厚度 0.1mm，純度達 99.999%，成膜均勻性與導電性優(yōu)異。

真空室：直徑 160mm、高度 120mm，大腔體設計兼容大尺寸與多數(shù)量樣品處理。

樣品臺（下部電極）：面積直徑 50mm，適合大樣品的濺射。

工作真空：8×10?2—2×10?1 mbar，適配空氣 / 氬氣兩種工作介質，靈活滿足不同實驗需求。

離子電流：標配 50mA 離子電流表，濺射電流清晰直觀。

數(shù)顯計時：支持自定義單次濺射時間，操作直觀、過程可控。

工作電壓：-1600VDC，保障穩(wěn)定直流濺射電場。

真空系統(tǒng)：配置VRD-4飛越真空泵，抽速快、建壓穩(wěn)、噪音低。

氣路控制：配備氬氣專用進氣口與微量充氣調節(jié)閥，支持 φ4×2.5mm 軟管連接。

外形尺寸：360mm×300mm×380mm，桌面式緊湊布局，節(jié)省實驗室空間。

擴展適配與實用價值

除標配金靶外，還可兼容金、鉑、銀、氧化鋅等多種靶材，為用戶提供更多材料選擇與功能擴展空間。JS-1600小型離子濺射儀以穩(wěn)定的直流濺射、友好的操作界面、可靠的真空系統(tǒng)與大腔體兼容設計，全面覆蓋材料科學、物理、化學、電子、生物等領域的 SEM 樣品導電處理、非導體電極制備、表面改性等應用。整機結構堅固、維護簡便、運行穩(wěn)定，是科研院所、高校實驗室、企業(yè)質檢與研發(fā)部門提升制樣效率、保障檢測精度的高效工具。

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