日本愛發(fā)科ULVAC 電阻加熱真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)
風(fēng)冷擴(kuò)散泵集成一體,實(shí)驗(yàn)室免水路配套
傳統(tǒng)擴(kuò)散泵真空系統(tǒng)必須外接冷卻水,改造實(shí)驗(yàn)室管路成本高;VFR-200M 全系擴(kuò)散泵搭載內(nèi)置風(fēng)冷散熱結(jié)構(gòu),通電即可運(yùn)行,無需水冷機(jī)、水管鋪設(shè),普通實(shí)驗(yàn)室臺(tái)面、通風(fēng)柜旁均可放置。整機(jī)所有閥路、泵體、電控封閉在統(tǒng)一機(jī)架,管線布局規(guī)整,無零散外置泵體。
三通閥不停泵開蓋,大幅提升實(shí)驗(yàn)效率
內(nèi)置專用三通切換閥,換樣品時(shí)腔體通大氣、前級(jí)泵獨(dú)立抽氣,擴(kuò)散主泵持續(xù)高溫工作無需降溫重啟;傳統(tǒng)設(shè)備每次開蓋都要關(guān)停擴(kuò)散泵等待冷卻再升溫,單次實(shí)驗(yàn)等待時(shí)間大幅縮短,適合頻繁換樣、多批次試樣對(duì)比研發(fā)場景。
雙真空計(jì)全程監(jiān)測真空狀態(tài)
機(jī)架正面集成皮拉尼真空計(jì)(粗真空)+ 電離真空計(jì)(高真空) 兩塊數(shù)顯表頭,實(shí)時(shí)直觀顯示腔體內(nèi)壓力;系統(tǒng)到達(dá)鍍膜工藝真空時(shí)可直觀讀數(shù),判斷蒸鍍啟動(dòng)時(shí)機(jī),儀表統(tǒng)一集成在機(jī)架,無需額外單獨(dú)采購真空測量設(shè)備。
VFR-200M/ERH 蒸發(fā)款,一站式薄膜制備設(shè)備
頂部配備透明可視玻璃鐘罩,內(nèi)部搭載電阻加熱蒸發(fā)電極,原廠蒸發(fā)電源配套,可蒸鋁、金、鉻、氧化介質(zhì)等各類薄膜;最多拓展四路蒸發(fā)源,實(shí)現(xiàn)多層復(fù)合膜同步沉積;鐘罩側(cè)面預(yù)留多組電極、通氣法蘭接口,可加裝離子清洗、氣氛通入配件。
日本愛發(fā)科ULVAC 電阻加熱真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)
機(jī)架模塊化拓展,配件統(tǒng)一收納
整機(jī)機(jī)架預(yù)留標(biāo)準(zhǔn)安裝位,液氮冷阱、油霧過濾器、自動(dòng)放氣閥、外置真空計(jì)等選購配件均可直接加裝在本機(jī)上,不用額外搭建支架;設(shè)備自帶吊裝吊環(huán),搬運(yùn)、進(jìn)實(shí)驗(yàn)室電梯方便,底部萬向腳輪 + 水平調(diào)節(jié)支撐腳,移動(dòng)后調(diào)平穩(wěn)定無晃動(dòng)。
安全與維護(hù)設(shè)計(jì)
閥路結(jié)構(gòu)精簡,管路接頭、密封件數(shù)量少,日常檢漏、更換密封件操作簡單;擴(kuò)散泵、旋片泵檢修口外露,更換泵油、清理泵體不用拆解整機(jī);內(nèi)置油霧過濾模組,防止真空油返流污染腔體薄膜試樣,保障鍍膜潔凈度。
適用行業(yè)場景
高校材料學(xué)院:金屬薄膜、光電薄膜、導(dǎo)電電極、納米材料蒸鍍實(shí)驗(yàn);
光學(xué)研發(fā):玻璃、石英基板反射膜、增透膜小型試樣制備;
電子實(shí)驗(yàn)室:PCB 小片、半導(dǎo)體晶圓、元器件電極沉積;
企業(yè)研發(fā)部:新材料涂層、防腐薄膜、功能膜工藝摸索;
理化檢測:真空環(huán)境下樣品表面觀測前預(yù)處理。
低運(yùn)維長期穩(wěn)定運(yùn)行
原廠配套專用真空油,泵體密封耐久度高;風(fēng)冷散熱穩(wěn)定,長時(shí)間連續(xù)抽氣無過熱停機(jī);整機(jī)出廠完成真空檢漏標(biāo)定,年度僅需更換密封圈、定期更換泵油,普通實(shí)驗(yàn)人員可獨(dú)立完成保養(yǎng)。
用戶評(píng)論
發(fā)布評(píng)論