UV Litho-ACA Master無(wú)掩模光刻系統(tǒng)是科研版的無(wú)掩模版紫外光刻機(jī)，其基于空間光調(diào)制技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了數(shù)字掩模光刻，優(yōu)異的靈活性使其成為科學(xué)研究的選擇。設(shè)備搭載長(zhǎng)壽命、高功率的紫外光源，設(shè)備穩(wěn)定，上手簡(jiǎn)單。其獨(dú)特的原位光繪和交互式套刻指引功能，讓光刻和套刻更加容易和精準(zhǔn)。ACA系列設(shè)備為科研工作提供了有力的支持，助力科學(xué)研究領(lǐng)域的發(fā)展和創(chuàng)新。

UV Litho-ACA Master無(wú)掩模光刻系統(tǒng)是一款高精度、高效率的光刻設(shè)備，其主要亮點(diǎn)如下：

1. 特征尺寸0.4μm：ACA Master無(wú)掩膜光刻機(jī)采用了先進(jìn)的曝光技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了0.4μm的超高精度特征尺寸，為半導(dǎo)體、MEMS、生物芯片等領(lǐng)域的研究和生產(chǎn)提供了有力的支持。

2. 6英寸光刻面積：該設(shè)備支持6英寸晶圓的全面積光刻，適用于多種尺寸和形狀的基板，具有較高的通用性。

3. 掃描光刻/步進(jìn)光刻可切換：ACA Master無(wú)掩膜光刻機(jī)具備掃描光刻和步進(jìn)光刻兩種模式，可根據(jù)實(shí)際需求進(jìn)行切換。掃描光刻模式適用于大面積、高效率的生產(chǎn)；步進(jìn)光刻模式則適用于小面積、高精度的研究。

4. 無(wú)掩膜光刻技術(shù)：與傳統(tǒng)光刻機(jī)相比，ACA Master無(wú)掩膜光刻機(jī)摒棄了掩膜板，直接在基板上進(jìn)行曝光。無(wú)掩膜光刻技術(shù)省去了掩膜板制作環(huán)節(jié)，降低了生產(chǎn)成本，縮短了研發(fā)周期。無(wú)掩膜光刻機(jī)可根據(jù)設(shè)計(jì)圖案實(shí)時(shí)調(diào)整曝光參數(shù)，實(shí)現(xiàn)快速迭代和優(yōu)化。無(wú)掩膜光刻技術(shù)可實(shí)現(xiàn)任意形狀的圖案曝光，適用于復(fù)雜結(jié)構(gòu)的研究和生產(chǎn)。

ACA Master無(wú)掩膜光刻機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì)，集成了曝光、對(duì)位、檢測(cè)等多個(gè)功能，占地面積小，操作簡(jiǎn)便。設(shè)備具備自動(dòng)化控制系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)曝光參數(shù)、對(duì)位精度等關(guān)鍵指標(biāo)的實(shí)時(shí)監(jiān)控和調(diào)整，降低人工干預(yù)，提高生產(chǎn)效率。ACA Master無(wú)掩膜光刻機(jī)支持多種類型的基板和光刻膠，適用于不同領(lǐng)域的研究和生產(chǎn)需求。設(shè)備采用節(jié)能型光源和優(yōu)化設(shè)計(jì)，降低了能耗，減少了對(duì)環(huán)境的影響。

ACA Master無(wú)掩膜光刻機(jī)憑借其優(yōu)異的性能和廣泛的應(yīng)用前景，為我國(guó)半導(dǎo)體、MEMS、生物芯片等領(lǐng)域的發(fā)展提供了有力支持。