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NR7-1000P NR9-1000P
487
湖北武漢市
2021/3/18 15:10:08
產(chǎn)品簡介
| 供貨周期 | 一個月以上 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,能源 |
可在基本的水顯影劑中顯影的負(fù)性光刻膠
特性
厚度范圍：<0.1-120.0 µm
對波長小于380nm的靈敏度
優(yōu)于表面拓?fù)涞木€寬控制
直側(cè)壁適合任何膜厚
能夠在單次旋涂中涂覆100 µm厚的膜
由于應(yīng)用了150°C的軟烘烤，烘烤時間更短（對于厚膜至關(guān)重要）
出色的光速，可提高曝光量
有助于提高RIE中的功率密度，從而提高蝕刻速率和蝕刻產(chǎn)量
消除使用粘合促進(jìn)劑
RIE /離子耐高溫 厚度 濕法蝕刻 厚度
增強(qiáng)附著力
NR7-250P 0.2um-0.6um NR9-250P 0.2um-0.6um
NR7-1000P 0.7um-2.1um NR9-1000P 0.7um-2.1um
NR7-1500P 1.1um-3.1um NR9-1500P 1.1um-3.1um
NR7-3000P 2.1um-6.3um NR9-3000P 2.1um-6.3um
NR7-6000P 5.0um-12.2um NR9-6000P 5.0um-12.2um
NR5-8000 5.8um-100.0um NR9-8000P 6.0μm-100um
耐溫性= 150°C 在低于120°C的處理溫 耐溫性= 100°C。
度下可在25°C剝離NR5和NR7系列抗蝕劑 NR9系列抗蝕劑具有增強(qiáng)的附著力
在25°C時易于剝離。
Futurrex NR5-8000，4.5：1 AR
抗蝕劑分辨率的示例
膜厚度：54µm
掩模尺寸：12µm線/間隔
曝光劑量：1100 mJ / cm 2。
焦點偏移：-15µm。
曝光工具：Ultratech步進(jìn)土星
模型，i-line
另有：NR9G g和h線曝光用粘度增強(qiáng) 具有高粘附性適用于電鍍及濕法蝕刻
NR71G g和h線曝光用于干法蝕刻中掩模應(yīng)用并能作為隔層
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您訪問的Futurrex紫外負(fù)性光刻膠NR7-1000P產(chǎn)品信息，由武漢市洪山區(qū)萊博茲科學(xué)儀器經(jīng)營部自行發(fā)布提供，產(chǎn)品價格為面議，如您想了解更多關(guān)于Futurrex紫外負(fù)性光刻膠NR7-1000P型號、參數(shù)、用途等信息，歡迎咨詢。
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