2025年12月26日,全球高精度增材制造領導者Nanoscribe在中國上海正式啟用其全新Quantum X微納加工示范實驗室。此次揭幕的Quantum X align系統(tǒng),標志著該公司革命性的“對準式雙光子光刻技術”首次在中國開放實踐體驗。活動匯聚產(chǎn)學研界權威專家,生動展現(xiàn)了Nanoscribe深耕中國市場的堅定承諾與創(chuàng)新布局。
當日,Nanoscribe上海子公司以專題研討會的形式,為與會嘉賓呈現(xiàn)了一場技術盛宴。來自產(chǎn)業(yè)界與學術界的領軍代表親臨現(xiàn)場,深度觀摩全新投用的Quantum X align系統(tǒng),并就微納制造的前沿趨勢與落地應用展開了熱烈交流。這一重要里程碑不僅彰顯了Nanoscribe在中國本土化服務的升級,更為國內精密制造領域的技術突破注入了國際領先的創(chuàng)新動能。
上海全新示范實驗室的核心設備是Quantum X align高精度雙光子光刻系統(tǒng)。該系統(tǒng)支持在光纖、芯片與晶圓表面實現(xiàn)自動化對準,為高分辨率三維微納結構制造提供完整的解決方案,展現(xiàn)了納米級增材制造技術的前沿突破。
深耕中國市場的戰(zhàn)略里程碑
Nanoscribe 聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官 Martin Hermatschweiler 通過線上形式從德國卡爾斯魯厄總部發(fā)表致辭,強調了中國市場在 Nanoscribe 全球戰(zhàn)略中的核心地位。他表示,“上海Quantum X示范實驗室的落成,是我們持續(xù)賦能中國科技創(chuàng)新生態(tài)的重要舉措。中國在光子集成、先進光學與精密制造領域的快速發(fā)展,與Nanoscribe以技術推動產(chǎn)業(yè)升級的愿景高度契合。”
他進一步強調:“通過將高通量雙光子光刻系統(tǒng)引入本地,我們能夠幫助客戶顯著縮短從研發(fā)到量產(chǎn)的周期,切實支撐‘實驗室到產(chǎn)線’的技術轉化,為中國前沿科技領域的高質量發(fā)展提供關鍵制造能力。”
以專有技術突破微制造邊界?
Nanoscribe中國區(qū)總經(jīng)理崔萬銀博士在技術報告中系統(tǒng)闡釋了Quantum X align如何通過自主核心技術應對高精度微制造的挑戰(zhàn):
- 雙光子灰度光刻技術(2GL®)在單次掃描中實現(xiàn)像素灰度連續(xù)調控,在保持亞微米級分辨率的同時,將制造效率提升10–60倍,并結合超過4000級灰度控制實現(xiàn)卓越的形狀精度,為復雜微光學元件與功能性表面的高效率制備提供工藝基礎。
- 對準雙光子光刻技術(A2PL®)支持在預制基底(包括光纖端面、光子芯片與晶圓)上進行三維結構直寫,定位精度達100納米,顯著降低光子器件耦合損耗,為集成光子封裝與半導體異質集成提供高精度對準解決方案。
?技術研討與與場景化演示
本次活動同時舉辦了微納制造前沿技術研討會。來自科研機構與產(chǎn)業(yè)界的專家圍繞光子集成、智能超表面、X射線光學與AI輔助微納設計等方向,分享了最新進展。
亞太區(qū)服務經(jīng)理朱玉芳通過現(xiàn)場實機演示,呈現(xiàn)了Quantum X align在制備光學級表面(Ra ≤ 10 nm)與高形貌精度結構(Sa ≤ 200 nm)方面的穩(wěn)定性能,驗證了該系統(tǒng)在光通信、人工智能硬件與高端醫(yī)療器械等領域的應用成熟度。
上海Quantum X示范實驗室正式啟動?
實驗室將面向客戶與合作伙伴開放,提供專業(yè)的設備演示與定制化培訓服務,助力用戶深度評估設備加工能力與應用潛力。
Nanoscribe期待與產(chǎn)業(yè)鏈各界攜手,通過微納制造技術創(chuàng)新,共同推進光學、半導體、生物醫(yī)療等領域的設備研發(fā)與工藝突破,賦能中國高科技產(chǎn)業(yè)的自主發(fā)展路徑。
關于 Nanoscribe?
Nanoscribe是高端微納尺度增材制造的技術領導者與市場開拓者。公司專注于基于專利雙光子聚合(2PP)技術的三維光刻系統(tǒng)、灰度直寫設備及相關功能性材料,為科研與工業(yè)客戶提供覆蓋納米至介觀尺度的微制造完整解決方案。
公司成立于2007年,源自卡爾斯魯厄理工學院,2024年12月成為Lab14集團成員。Nanoscribe在全球擁有超過150項專利,在德國、美國與中國設有分支機構,其系統(tǒng)已支持全球眾多科研機構與企業(yè)用戶取得技術突破,累計助力超過2100篇經(jīng)同行評審的高水平研究成果發(fā)表。
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