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優(yōu)勢有售日本電子JEOL電鏡靶材BS1613 NO.780174721
產(chǎn)品定位與用途
BS1613 屬于小型緊湊型 EB 電子束蒸發(fā)源，適配 JEOL 真空鍍膜機(jī)、離子濺射噴鍍設(shè)備、SEM 樣品前處理鍍膜儀：
掃描電鏡樣品鍍金 / 鉑 / 碳導(dǎo)電膜制備
實驗室薄膜沉積、光學(xué)介質(zhì)膜蒸鍍
半導(dǎo)體、微電子、材料實驗室薄層鍍膜
低功率、小容量坩堝，適合少量樣品、科研小批量實驗
結(jié)構(gòu)與材質(zhì)
整體結(jié)構(gòu)：電子束偏轉(zhuǎn)線圈 + 水冷坩堝基座 + 鎢 / 鉬蒸發(fā)坩堝組件
水冷設(shè)計：循環(huán)水冷基座，長時間蒸鍍不高溫變形
坩堝材質(zhì)：高純鉬 / 鎢耐高溫坩堝，適配金、鉑、碳、鋁、鉻、氧化物等蒸鍍材料
真空適配：超高真空結(jié)構(gòu)，無放氣污染樣品，滿足電鏡潔凈要求
內(nèi)置電子束偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)，電子束可 270° 大范圍掃描轟擊耗材
參數(shù)
額定最大功率：1.3kW（BS1613 對應(yīng)功率規(guī)格）
電子束偏轉(zhuǎn)角度：270°
冷卻方式：循環(huán)水冷
適用真空度：1×10?3 ~ 1×10?? Pa
適配蒸鍍材料：金屬、貴金屬、氧化物、碳膜
工作溫度：坩堝最高耐受 2200℃+
配套設(shè)備：JEOL JFC 系列噴鍍儀、真空蒸鍍機(jī)、薄膜沉積系統(tǒng)
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