X熒光數(shù)據(jù)偏差大?熔片氣泡析晶問題從熔樣機(jī)參數(shù)入手解決
X熒光數(shù)據(jù)偏差大,很大程度上并非儀器本身的問題,而是熔片質(zhì)量拖了后腿。氣泡導(dǎo)致光程不均、析晶造成基體不均,兩者都會(huì)讓同一份樣品測(cè)出截然不同的結(jié)果。解決這兩個(gè)頑疾,關(guān)鍵不在換儀器,而在調(diào)熔樣機(jī)參數(shù)。
氣泡的根源是氣體沒排凈。原料顆粒間隙、原料氣化、碳坩堝與樣品的化學(xué)反應(yīng)都會(huì)產(chǎn)氣。參數(shù)上首先要抓預(yù)氧化環(huán)節(jié)——將預(yù)氧化溫度設(shè)在700℃左右,保持足夠時(shí)間,讓樣品中的硫化物、碳化物充分分解放氣,這一步做不到位,后面再怎么攪都白搭。其次是升溫速率,過快會(huì)把氣體"封"在熔體里,建議分段升溫,在600至800℃區(qū)間適當(dāng)放慢節(jié)奏,給氣體逸出留窗口。脫氣階段可通入氮?dú)饣蚓S持真空,把殘留氣體抽走。熔融溫度須保證熔化,通常在1100至1200℃之間,同時(shí)開啟爐體擺動(dòng)攪拌,擺動(dòng)角度調(diào)至20至40度,利用機(jī)械攪動(dòng)把氣泡趕出液面。
析晶的本質(zhì)是降溫太慢。熔體在析晶溫度區(qū)間停留時(shí)間過長(zhǎng),晶核就會(huì)生長(zhǎng)。參數(shù)上必須縮短高溫均化后的降溫時(shí)間,讓熔體快速越過析晶溫度區(qū),直接進(jìn)入澆注或成型。澆注后可采用分級(jí)降溫,先快后慢,避免驟冷開裂的同時(shí)杜絕析晶窗口。
實(shí)際操作中,建議針對(duì)不同樣品預(yù)設(shè)多組參數(shù)方案,熔融溫度偏差控制在正負(fù)2℃以內(nèi),同一批次樣品的熔融時(shí)間保持一致。把熔片做透做勻,數(shù)據(jù)偏差自然收窄。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
手機(jī)版
化工儀器網(wǎng)手機(jī)版
化工儀器網(wǎng)小程序
官方微信
公眾號(hào):chem17
掃碼關(guān)注視頻號(hào)















采購(gòu)中心