TEL東京電子Episode  UL系列等離子蝕刻機(jī)是進(jìn)行干法刻蝕常見的核心精密設(shè)備，Episode  UL系列等離子蝕刻機(jī)利用氣體放電產(chǎn)生的等離子體，對材料表面進(jìn)行原子級或納米級的精準(zhǔn)刻蝕。

TEL東京電子Episode  UL系列等離子蝕刻機(jī)主要由以下四大核心部分及輔助系統(tǒng)組成。

預(yù)真空室：確保刻蝕腔內(nèi)維持設(shè)定的真空度，隔離外界粉塵、水汽及危險(xiǎn)氣體，通常包含蓋板、機(jī)械手和傳動機(jī)構(gòu)等。

刻蝕腔體：設(shè)備的核心結(jié)構(gòu)，直接影響刻蝕速率、垂直度和粗糙度。內(nèi)部包含上電極、ICP射頻單元、RF射頻單元、下電極系統(tǒng)及溫控系統(tǒng)等。

供氣系統(tǒng)：通過壓力控制器和質(zhì)量流量控制器精準(zhǔn)控制各類刻蝕氣體和保護(hù)氣體的流速與流量。

真空系統(tǒng)：分為預(yù)真空室和刻蝕腔體兩套系統(tǒng)，由機(jī)械泵和分子泵共同提供并維持所需的真空環(huán)境，同時負(fù)責(zé)排空反應(yīng)生成的氣體。

其他輔助系統(tǒng)：包括射頻電源系統(tǒng)、終點(diǎn)檢測系統(tǒng)（如光學(xué)發(fā)射譜OES、激光干涉法）以及自動控制系統(tǒng)。

TEL東京電子Episode  UL系列等離子蝕刻機(jī)的工作原理

等離子體生成：在真空低氣壓的反應(yīng)腔體內(nèi)，通入特定比例的刻蝕氣體（如氟基、氯基、氧基等）。射頻電源（RF）產(chǎn)生的高頻電場使氣體發(fā)生輝光放電，電離形成包含電子、離子和中性自由基的高密度等離子體。

物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)：高能離子在電場加速下垂直轟擊晶圓表面，打斷材料的化學(xué)鍵并促進(jìn)反應(yīng)產(chǎn)物脫附；同時，等離子體中的活性自由基與目標(biāo)材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成揮發(fā)性物質(zhì)。

廢氣排出：生成的揮發(fā)性副產(chǎn)物由真空系統(tǒng)抽離反應(yīng)腔，從而完成一次精準(zhǔn)的材料去除過程。