447nm 671nm 1342nm激光器簡介

?                      1342 nm（基頻光）——半導體硅材料專用波長

1342 nm 是 Nd:YAG 晶體的特征發(fā)射譜線，屬于近紅外波段。硅（Si）在 1342 nm 處的吸收系數(shù)顯著高于 1064 nm，熱效應(yīng)分布更均勻、更易控制，特別適用于硅材料內(nèi)部改性與深層微加工，如硅晶圓隱形劃片、集成電路電阻微調(diào)、半導體晶圓精密加工等，可實現(xiàn)無裂紋、低損傷、無碎屑的高質(zhì)量加工。1342 nm 被譽為硅材料精密加工的“黃金波長”，相比 1064 nm 具有更高的工藝穩(wěn)定性與加工潔凈度，是半導體后道工藝的理想光源。

?                      671 nm（1342 nm 二倍頻）

671 nm 為 1342 nm 基頻光經(jīng)非線性光學倍頻產(chǎn)生的紅光輸出，該波長對平板顯示產(chǎn)業(yè)廣泛使用的光刻膠、有機功能薄膜、ITO 透明導電膜等材料具有匹配度優(yōu)異的吸收特性，聚焦精度高、熱影響區(qū)小，廣泛應(yīng)用于 LCD/OLED/MicroLED 面板像素修補、TFT 電路修復、微小缺陷修正與精密打標等場景。671 nm 是顯示面板修復領(lǐng)域通用型標準紅光波長，具備修復精度高、基板損傷低、良率優(yōu)等核心優(yōu)勢。

?                      447 nm（1342 nm 三倍頻）

447 nm 為 1342 nm 基頻光經(jīng)三倍頻技術(shù)獲得的藍光輸出，是 Nd:YAG 體系ji具特色的短波長光源。447 nm 光子能量高，對有機材料、光刻膠、聚合物薄膜等吸收效率ji高，可實現(xiàn)冷加工效應(yīng)，加工過程無碳化、無發(fā)黃、無熱擴散，特別適用于顯示面板微小缺陷修補、像素精準修復、功能性薄膜高精度去除等工藝。447 nm 是顯示微加工領(lǐng)域最高精度級冷加工波長，相比綠光與紅光，加工邊緣更潔凈、分辨率更高、器件良率更優(yōu)。

青島森泉光電可提供BrightSolutions的447nm/671nm/1342nm 納秒脈沖固體激光器，有需求請聯(lián)系我們！參數(shù)規(guī)格如下：