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全反射X射線熒光光譜儀的作用及儀器結構簡述
全反射X射線熒光光譜儀(TXRF)是一種基于全反射X射線熒光技術的高靈敏度分析儀器，主要用于液體、懸浮液、固體及污染物樣品的定量及半定量多元素微量分析。
當 X 射線以小于臨界角(通常 0.1°-0.5°)入射到樣品載體(如石英片)表面時，會發(fā)生全反射，避免載體對 X 射線的吸收和散射。樣品(均勻鋪展在載體表面，厚度≤100nm)中的元素原子被激發(fā)，發(fā)射出特征 X 射線熒光(XRF)，通過探測器采集特征 X 射線的能量和強度，根據(jù)能量識別元素種類，根據(jù)強度定量計算元素含量。
其核心作用包括：
多元素微量分析：能夠同時對液體、粉末、固體等樣品中的常量、次量及痕量元素進行定量或半定量檢測，覆蓋元素范圍從鋁(Al)到鈾(U)(除惰性氣體及少數(shù)元素外)，含量檢測限可低至納克(ng)甚至亞納克級別。
降低背景噪聲：通過以很小入射角(通常低于0.1°)照射樣品，利用全反射現(xiàn)象明顯減少基底散射干擾，使檢測限比常規(guī)X射線熒光技術降低幾個數(shù)量級，提升信噪比。
適用廣泛樣品類型：無需復雜樣品制備，可直接分析微升級液體、粉末或固體樣品，尤其適合超微量樣品(如生物樣本、環(huán)境污染物)的無損檢測。
儀器結構
X 射線源：由高壓發(fā)生器及射線管組成，提供初級 X 射線，對樣品中待測元素進行激發(fā)。
光路系統(tǒng)：包括光闌、濾波器、準直狹縫、單色器等，用于調節(jié)初級 X 射線的幾何形狀和光譜分布，以滿足 TXRF 的入射角、能量分布等需求。
進樣系統(tǒng)：提供樣品載體，多為石英玻璃、有機玻璃等，滿足全反射條件并完成自動進樣操作。
探測器：作為數(shù)據(jù)讀出的核心部件，主要有半導體探測器、硅漂移探測器(SDD)及位敏探測器，目前商用儀器多使用硅漂移探測器。
數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)：對探測器采集到的數(shù)據(jù)進行分析和處理，計算出元素的種類和含量，并以圖表等形式呈現(xiàn)結果。
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