在半導(dǎo)體、平板顯示、光學(xué)鍍膜、新能源及納米材料研究領(lǐng)域，磁控濺射技術(shù)因其成膜致密、附著力強(qiáng)、可鍍材料廣泛等優(yōu)勢(shì)，成為制備金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)薄膜的核心工藝。
然而，面對(duì)復(fù)雜的多層膜、合金膜及反應(yīng)濺射需求，傳統(tǒng)的單靶濺射設(shè)備往往難以兼顧均勻性、重復(fù)性與工藝靈活性。DE500DL磁控濺射系統(tǒng)應(yīng)運(yùn)而生，為研發(fā)、中試及小批量生產(chǎn)提供了一站式高真空鍍膜解決方案。
磁控濺射是指在真空環(huán)境下，利用輝光放電產(chǎn)生的氣體離子轟擊靶材表面，使靶材原子被濺射出來(lái)并沉積在基片上形成薄膜。通過(guò)施加磁場(chǎng)約束電子運(yùn)動(dòng)，顯著提高濺射效率和沉積速率，同時(shí)避免基片過(guò)熱，實(shí)現(xiàn)低溫高速成膜。
北京德儀科技推出的DE500DL磁控濺射系統(tǒng)，是一款專為高精度、多材料、復(fù)雜工藝設(shè)計(jì)的研發(fā)與生產(chǎn)兼容型設(shè)備。它具備以下核心優(yōu)勢(shì)：
極限真空度高：提供清潔的沉積環(huán)境，降低雜質(zhì)污染。
多達(dá)6個(gè)濺射源：可同時(shí)安裝不同材料靶材（金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)），無(wú)需破空即可實(shí)現(xiàn)多層膜或共濺合金膜的連續(xù)制備，極大提升實(shí)驗(yàn)效率與工藝重復(fù)性。
濺射距離可調(diào)：靈活優(yōu)化沉積速率與均勻性，適應(yīng)不同厚度的薄膜需求。
配備直流（DC）、脈沖直流（Pulsed DC）、射頻（RF）及高功率脈沖磁控濺射（HiPIMS） 電源。
可沉積導(dǎo)電靶材（金屬、合金）、非導(dǎo)電靶材（陶瓷、氧化物）以及進(jìn)行反應(yīng)濺射（如氮化物、氧化物薄膜）。
HiPIMS技術(shù)能產(chǎn)生高離化率等離子體，顯著改善薄膜致密度與臺(tái)階覆蓋性。
樣品臺(tái)可高溫加熱（最高可選配至800℃以上），滿足需要原位退火或高溫沉積的工藝要求。
可選低溫冷卻功能，適用于對(duì)溫度敏感的柔性基底或有機(jī)材料。
高精度鍍膜速率及膜厚控制，結(jié)合石英晶振在線監(jiān)測(cè)，確保膜厚準(zhǔn)確性及批次一致性。
PLC+PC全自動(dòng)控制，可編程存儲(chǔ)多條工藝配方，實(shí)現(xiàn)一鍵式鍍膜，降低人為誤差。
可選配Load Lock（進(jìn)樣室），實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)送樣，在不破壞主真空室真空度的情況下快速更換樣品，極大提升產(chǎn)能。
可選離子束清洗/輔助沉積或RF等離子體清洗，在鍍膜前去除基片表面污染物，進(jìn)一步增強(qiáng)膜基附著力。
DE500DL磁控濺射系統(tǒng)可廣泛應(yīng)用于：
半導(dǎo)體器件：電極、阻擋層、接觸層薄膜。
光學(xué)鍍膜：增透膜、反射膜、濾光片。
平板顯示：透明導(dǎo)電薄膜（如ITO）、金屬電極。
新能源材料：薄膜太陽(yáng)能電池、固態(tài)電池電解質(zhì)膜。
納米材料研究：磁性薄膜、超晶格、梯度合金膜。
硬質(zhì)涂層：氮化鈦（TiN）、類金剛石（DLC）等耐磨防護(hù)膜。
DE500DL磁控濺射系統(tǒng)憑借其高真空度、多靶配置、全電源兼容、精確溫控及智能化操作，突破了傳統(tǒng)單靶濺射設(shè)備的局限。無(wú)論是用于前沿材料探索的研發(fā)實(shí)驗(yàn)室，還是需要穩(wěn)定工藝的中試生產(chǎn)線，它都能提供優(yōu)異的薄膜質(zhì)量、均勻性、重復(fù)性及附著力。
北京德儀科技深耕薄膜沉積領(lǐng)域，DE500DL系統(tǒng)以其靈活性、擴(kuò)展性和高性價(jià)比，已成為眾多高校、研究所及高新技術(shù)企業(yè)信賴的鍍膜平臺(tái)。
如需獲取更詳細(xì)的技術(shù)參數(shù)或討論您的具體工藝需求，歡迎聯(lián)系我們。
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