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ULVAC愛發(fā)科日本進口水晶振蕩式成膜控制器CRTM-R1的操作應用
晶體薄膜沉積控制器是薄膜制造過程中精度測量和控制薄膜厚度和速率的設備。晶體振蕩器用于檢測成膜過程中的質(zhì)量變化并計算準確的膜厚度。這將提高有機器件、半導體和光學器件等需要膜厚的領域的質(zhì)量和生產(chǎn)效率。
晶體薄膜沉積控制器CRTM系列是基于豐富的經(jīng)驗開發(fā)的產(chǎn)品。特別是CRTM-R1系列采用“阻抗法"來提高膜厚測量性能。這使得成膜過程更加穩(wěn)定并提供高質(zhì)量的成膜。對于有機工藝，如果使用專用機CRTM-R1-EL，則可以穩(wěn)定的成膜。
CRTM-R1是基于ULVAC多年培育的技術開發(fā)的水晶式成膜控制器。通過采用新的測量方法，我們速率穩(wěn)定性和比以前的型號更高的分辨率。它可用于從金屬薄膜到光學薄膜的各種氣相沉積工藝。
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