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宮崎科技（廈門）有限公司
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CRYO--U12HL日本ULVAC愛發(fā)科真空泵低溫泵CRYO-U12HL
| 參考價: | ￥ 7550 |
| 訂貨量: | 1件 |
具體成交價以合同協(xié)議為準- CRYO--U12HL 產品型號
- ULVAC/日本愛發(fā)科 品牌
- 經銷商 廠商性質
- 廈門市 所在地
訪問次數(shù)：77更新時間：2026-03-24 16:23:08
馮女士
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產品簡介
| 泵軸位置 | 其他 | 輸送介質 | 其他 |
|---|---|---|---|
| 葉輪數(shù)目 | 其他 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,電子/電池,電氣,綜合 |
| 序列號 | 137，1703，2088 |
ULVAC Cryo 已廣泛應用于電子、光學、太陽能、核聚變和航天開發(fā)等各個領域，并積累了豐富的經驗。
產品介紹
日本ULVAC愛發(fā)科真空泵低溫泵CRYO-U12HL
日本ULVAC愛發(fā)科真空泵低溫泵CRYO-U12HL
特征
高度降低，設計更加緊湊。
支持設備小型化。
我們還可以生產其他尺寸的水泵。
外形尺寸（單位：毫米）
規(guī)格
| 排氣速度（20℃） | 氮 | 升/秒 | 4,000 |
| 氫 | 6,800 | ||
| 氬氣 | 3,300 | ||
| 水 | 9,500 | ||
| 極限壓力 | 帕（托） | 10 -7 (10 -9 ) | |
| zui大流量 | 氬氣 | 帕·升/秒 (托·升/秒) | 2.0 × 103 ( 15.0) |
| 排氣容量 | 氬氣 | Pa?L(Torr?L) | 3.1 × 10? (2.3 × 10? ) |
| 氫 | 9.8 × 10? ( 7.4 × 103 ) | ||
| 冷卻下降時間 （電源循環(huán)） | 最小值（赫茲） | 90/80 (50/60) | |
| 進氣法蘭 | UVG-300，10 B ANSI | ||
| 壓縮機組 | C30VRT | ||
| 大量的 | 公斤 | 40 | |
*維護周期：16,000 小時
ULVAC CRYO?U12HL 是愛發(fā)科 12 英寸二段式 G?M 低溫泵，HL = High Performance + Low Profile（高性能 + 低高度），核心是保持 12 英寸級超大抽速，同時大幅降低整機高度，專為空間緊湊、大型腔體、超高真空場景設計アルバック?クライオ株式會社。
一、核心定位與型號含義
型號含義：12 = 12 英寸冷頭；H = 高性能；L = Low Profile（低高度、緊湊型）。
核心定位：12 英寸緊湊型旗艦低溫泵，在 U12H 基礎上垂直高度大幅縮減，抽速與性能不變，適配設備小型化、空間受限的大型真空系統(tǒng)。
極限真空：1×10?? Pa（1×10?? Torr），無油潔凈アルバック?クライオ株式會社。
二、關鍵規(guī)格參數(shù)（20℃）
表格
| 參數(shù) | CRYO?U12HL | 標準 CRYO?U12H | 核心差異 |
|---|---|---|---|
| 抽速（L/s） | N?：4000；H?：6800；Ar：3300；H?O：9500 | N?：4000；H?：6000；Ar：3300；H?O：9500 | H?抽速 + 13% |
| 極限壓力 | 1×10?? Pa | 1×10?? Pa | — |
| zui大流量 | Ar：2.0×103 Pa·L/s；H?：4.1×102 Pa·L/s | Ar：2.0×103；H?：4.1×102 | — |
| 排氣容量 | Ar：3.1×10? Pa·L；H?：9.8×10? Pa·L | Ar：2.1×10?；H?：9.8×10? | Ar 容量 + 48% |
| 冷卻時間 | 90 min（50 Hz）/ 80 min（60 Hz） | 85/75 min | 略長 |
| 法蘭 | UVG?300、10B ANSI | UVG?300、12B ANSI | 法蘭縮小為 10 英寸級 |
| 配套壓縮機 | C30VR / C30VRT | C30VRT | 兼容兩款 |
| 重量 | 40.0 kg | 40.0 kg | 相同 |
| 維護周期 | 16,000 小時 | 16,000 小時 | — |
| 整機高度 | 顯著降低（緊湊型） | 標準高度 | HL 更矮 |
三、核心技術特點（HL 專屬）
緊湊型低高度設計
垂直高度大幅縮減，適配設備小型化、空間緊湊的大型真空腔體アルバック?クライオ株式會社。
法蘭兼容 10 英寸級（UVG?300/10B ANSI），可直接替換 U10H 系列，實現(xiàn)12 英寸抽速 + 10 英寸安裝空間的zui 優(yōu)組合。
性能全面升級
H?抽速 6800 L/s，比 U12H 提升13%，更適配含氫工藝（ALD、氫退火）アルバック?クライオ株式會社。
Ar 容量 3.1×10? Pa?L，比 U12H 提升48%，再生周期顯著延長，大幅提升設備稼動率。
保持N?抽速 4000 L/s、H?O 抽速 9500 L/s，滿足大型腔體快速抽氣需求アルバック?クライオ株式會社。
無油潔凈與穩(wěn)定可靠
全電驅動，無油、低振動、潔凈超高真空，滿足半導體、顯示、光伏等高良率工藝。
成熟二段式 G?M 冷頭，維護周期 16,000 小時，長期穩(wěn)定運行。
支持MBD?S/MBD?T + MBS?C 測溫系統(tǒng)，精準監(jiān)控冷頭溫度。
四、典型應用場景
半導體：空間緊湊的大型刻蝕、PVD、ALD/CVD 設備
顯示：FPD、OLED、Mini?LED 小型化大型腔體鍍膜 / 刻蝕產線
光伏：大尺寸硅片 PECVD、PVD，設備高度受限場景
光學：大面積光學鍍膜，緊湊型真空系統(tǒng)
科研：空間有限的大型超高真空實驗裝置
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