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產品簡介
| 泵軸位置 | 其他 | 輸送介質 | 其他 |
|---|---|---|---|
| 葉輪數目 | 其他 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,電子/電池,電氣,綜合 |
| 序列號 | 137，1703，2088 |
ULVAC Cryo 已廣泛應用于電子、光學、太陽能、核聚變和航天開發(fā)等各個領域，并積累了豐富的經驗。
產品介紹
日本ULVAC愛發(fā)科真空泵低溫泵CRYO-U8HSP
日本ULVAC愛發(fā)科真空泵低溫泵CRYO-U8HSP
特征
適用于濺射工藝。
氬氣排氣量約為傳統(tǒng)型號（U8H）的 2.5 倍。
氫氣排氣速度已提高到傳統(tǒng)型號（U8H）的約 1.2 倍。
更長的再生間隔有助于提高設備的利用率。
可進行多單元操作（最多 3 臺）。
外形尺寸（單位：毫米）
規(guī)格
| 排氣速度（20℃） | 氮 | 升/秒 | 1,700 |
| 氫 | 3,200 | ||
| 氬氣 | 1400 | ||
| 水 | 4,000 | ||
| 極限壓力 | 帕（托） | 10 -7 (10 -9 ) | |
| zui大流量 | 氬氣 | 帕·升/秒 (托·升/秒) | 1.2 × 103 (8.9) |
| 氫 | 2.4 × 102 (1.8) | ||
| 排氣容量 | 氬氣 | Pa?L(Torr?L) | 2.5 × 10? (1.9 × 10? ) |
| 氫 | 1.0 × 10? (7.8 × 103 ) | ||
| 冷卻下降時間 （電源循環(huán)） | 最小值（赫茲） | 125/115 (50/60) | |
| 進氣法蘭 | UVG-200、6 B ANSI、UFC-253 | ||
| 壓縮機組 | C10T，C10AT | ||
| 大量的 | 公斤 | 33.2 | |
*維護周期：16,000 小時
ULVAC CRYO?U8HSP 是愛發(fā)科專為濺射（Sputtering）工藝優(yōu)化的 8 英寸二段式 G?M 低溫泵，核心是大幅提升氬氣容量、強化氫氣抽速，顯著延長再生周期，是 PVD / 濺射產線的主力機型。
一、型號定位與含義
型號含義：SP = Sputtering Process（濺射工藝專用）
核心定位：在標準 CRYO?U8H 基礎上，氬氣容量 ×2.5、氫氣抽速 ×1.2，專為高 Ar 流量、長連續(xù)運行的濺射 / PVD 場景設計。
極限真空：1×10?? Pa（1×10?? Torr），無油潔凈。
二、關鍵規(guī)格參數（20℃）
表格
| 參數 | CRYO?U8HSP | 標準 CRYO?U8H | 提升幅度 |
|---|---|---|---|
| 抽速（L/s） | N?：1700；H?：3200；Ar：1400；H?O：4000 | N?：1700；H?：2700；Ar：1400；H?O：4000 | H? +18.5% |
| 極限壓力 | 1×10?? Pa | 1×10?? Pa | — |
| zui大流量 | Ar：1.2×103 Pa·L/s；H?：2.4×102 Pa·L/s | Ar：1.2×103；H?：2.4×102 | — |
| 排氣容量 | Ar：2.5×10? Pa·L；H?：1.0×10? Pa·L | Ar：1.0×10?；H?：1.0×10? | Ar +150% |
| 冷卻時間 | 100 min（50 Hz）/ 90 min（60 Hz） | 100/90 min | — |
| 法蘭 | UVG?200、6B ANSI、UFC?253 | 同左 | — |
| 配套壓縮機 | C10、C10AT、C10ES | 同左 | — |
| 重量 | 20.8 kg | 20.8 kg | — |
三、核心技術特點（SP 專屬）
- 濺射工藝深度優(yōu)化
氬氣容量翻倍 +：Ar 容量達 2.5×10? Pa·L，是 U8H 的2.5 倍，大幅延長再生間隔。
氫氣抽速強化：H?抽速 3200 L/s，比 U8H 高18.5%，適配含氫濺射 / ALD 工藝。
長周期穩(wěn)定運行：再生周期顯著延長，設備稼動率更高。
- 安裝與控制兼容
法蘭、接口、壓縮機與 U8H/U8H?U/U8HL wan全互換，可直接替換升級。
支持 MBD?S/MBD?T + MBS?C 測溫，適配現有控制系統(tǒng)。
支持最多 3 臺并聯，滿足大腔體濺射需求。
- 無油潔凈超高真空
全電驅動，無油蒸汽污染，滿足半導體、顯示、光學鍍膜的潔凈要求。
極限真空 1×10?? Pa，保障薄膜均勻性與良率。
四、典型應用場景
半導體：金屬化、鈍化、 barrier 層、TSV 濺射
顯示：OLED、LCD、Mini?LED 電極 / 薄膜濺射
光伏：TCO、背電極、金屬柵線 PVD
光學：低輻射膜、增透膜、導電膜 連續(xù)鍍膜
裝飾 / 工具：硬質涂層、裝飾膜 量產線
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