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Hellma CaF?晶體憑借性能，已成為多個(gè)產(chǎn)業(yè)的材料，應(yīng)用包括：半導(dǎo)體制造、高能激光技術(shù)、航天與空間光學(xué)、分析儀器與科研、紅外傳感與醫(yī)療。按加工精度分類：坯料級(jí)、研磨級(jí)、拋光級(jí)。

型號(hào)：

104-10-40 / 104B-QS

111-10-40

105-QS / 108-QS / 108B-QS

114-10-10

100-QS / 101-QS

100-10-40 / 100-10-10

按加工精度分類：

坯料級(jí)（Raw/Cut）：未經(jīng)過(guò)精細(xì)加工，適用于客戶二次定制加工；

研磨級(jí)（Ground）：表面粗糙度 Rq≈2μm，用于對(duì)表面精度要求較低的結(jié)構(gòu)件或預(yù)處理基材；

拋光級(jí)（Polished）：高精密加工，滿足光刻物鏡、激光腔鏡等核心光學(xué)元件需求。

按應(yīng)用場(chǎng)景分類：

半導(dǎo)體光刻專用型：直徑可達(dá) 350mm，厚度 80mm，適配 45nm 以下芯片制程的光刻機(jī)照明與投影系統(tǒng)；

激光系統(tǒng)專用型：直徑≤100mm，厚度≤30mm，優(yōu)化激光耐受性能，用于激光諧振腔、光束傳輸組件；

通用光學(xué)型：中等尺寸與精度，適配光譜儀、紅外傳感器、天文望遠(yuǎn)鏡等設(shè)備。

Hellma CaF2 產(chǎn)品核心特點(diǎn)

Hellma CaF?晶體之所以能成為光學(xué)領(lǐng)域的選擇，核心特點(diǎn)如下：

超寬光譜透射范圍：覆蓋 130nm 深紫外（DUV）至 8-9μm 中紅外波段，紫外區(qū)域（193nm/248nm）透過(guò)率＞90%，可見光區(qū)域＞92%，深紫外波段（157nm）透過(guò)率仍保持＞99.4%，實(shí)現(xiàn) “一材多用" 的全波段適配能力，無(wú)需更換材料即可滿足多光譜設(shè)備需求。

低色散與高成像精度：阿貝數(shù)高達(dá) 95.23，色散系數(shù)極低，能抑制不同波長(zhǎng)光線的分離，有效校正色差；折射率僅 1.43384，反射損失小，搭配高折射率均勻性，確保光學(xué)系統(tǒng)成像銳度與穩(wěn)定性。

高激光耐受與穩(wěn)定性：采用 LD 系列分級(jí)標(biāo)準(zhǔn)（LD-A 至 LD-D），針對(duì) 193nm ArF、248nm KrF 準(zhǔn)分子激光優(yōu)化，激光損傷閾值可達(dá) 7J/cm2 以上，極低的非線性折射率（1.9×10?1? cm2/W @1064nm）避免光束畸變，可在高功率激光長(zhǎng)期照射下保持性能穩(wěn)定，無(wú)衰減或色心產(chǎn)生。

。

大尺寸與定制靈活性：可量產(chǎn)最大直徑 440mm（多晶）、250mm（單晶）的基材，厚度范圍 1mm 至 150mm，支持圓形、棱鏡等異形結(jié)構(gòu)加工，表面精度可達(dá)到 λ/10 平整度，滿足大型光學(xué)系統(tǒng)與精密組件需求。