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靶向納米顆粒抗壓強(qiáng)度試驗機(jī)工作原理
靶向納米顆粒抗壓強(qiáng)度試驗機(jī)是一種用于測定靶向納米顆粒在壓力作用下的力學(xué)性能的專業(yè)設(shè)備。
靶向納米顆?？箟簭?qiáng)度試驗機(jī)工作原理通過施加垂直壓力至顆粒破裂，記錄破裂瞬間的臨界壓力值，直接反映靶向納米顆粒的抗壓強(qiáng)度，為藥物載體設(shè)計提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)?。
?靶向納米顆?？箟簭?qiáng)度試驗機(jī)技術(shù)特點(diǎn)：
?高精度測量?：采用電子傳感器和精密控制系統(tǒng)，分辨率可達(dá)±0.5%以內(nèi)，適用于微米級納米顆粒測試?。
?自動化操作?：集成數(shù)據(jù)采集軟件，自動生成壓力-變形曲線、統(tǒng)計大值/小值/平均值，并支持結(jié)果打印?。
?環(huán)境適應(yīng)性?：可調(diào)節(jié)試驗速度（如靜壓接觸樣品前后的獨(dú)立速度控制），適應(yīng)不同溫濕度條件下的測試需求?。
靶向納米顆?？箟簭?qiáng)度試驗機(jī)技術(shù)參數(shù)：
1. 產(chǎn)品規(guī)格： MX-0230
2． 精度等級： 0.5級
3． 額定負(fù)荷： 0.5N 1N 5N 10N 20N 50N(任選或多選）
4． 有效測力范圍：0.1/100-100;
5． 試驗力分辨率，負(fù)荷±500000碼；內(nèi)外不分檔，且全程分辨率不變。
6. 位移分辨率：0.0001mm
7. 變形分辨率：0.0001mm
8． 有效試驗寬度：120mm
9． 有效試驗空間：300mm
10． 試驗速度:：0.001~300mm/min(任意調(diào))
11. 速度精度：示值的±0.5%以內(nèi)；
12．位移測量精度：示值的±0.5%以內(nèi)；
13．變形測量精度：示值的±0.5%以內(nèi)；
14．應(yīng)力控速率范圍： 0.005%～6％FS/S
15．應(yīng)力控速率精度： 速率＜0.05％FS/S時，為設(shè)定值的±1%以內(nèi)；速率≥0.05％FS/S時，為設(shè)定值的±0.5%以內(nèi)；
16．應(yīng)變控速率范圍： 0.002%～6％FS/S
17．應(yīng)變控速率精度： 速率＜0.05％FS/S時，為設(shè)定值的±2%以內(nèi)；速率≥0.05％FS/S時，為設(shè)定值的±0.5%以內(nèi)；
18. 恒力/位移/變形測量范圍：0.5％～100FS
19．恒力/位移/變形測量精度：設(shè)定值＜10％FS時, 為設(shè)定值的±1%以內(nèi)； 設(shè)定值≥10％FS時, 為設(shè)定值的±0.1%以內(nèi)；
20．試臺升降裝置：快/慢兩種速度控制，可點(diǎn)動；
21．試臺安全裝置：電子限位保護(hù)
22．試臺返回：手動可以高速度返回試驗初始位置，自動可在試驗結(jié)束后自動返回；
23．試驗定時間自動停車,試驗定變形自動停車,試驗定負(fù)荷自動停車
24．超載保護(hù)：超過大負(fù)荷10%時自動保護(hù)；
25. 自動診斷功能，定時對測量系統(tǒng)、驅(qū)動系統(tǒng)進(jìn)行過載、過壓、過流、超負(fù)荷等檢查，出現(xiàn)異常情況立即進(jìn)行保護(hù)
26．電源功率： 200W
27．主機(jī)重量： 40kg
28. 電源電壓: 220V（單相）
29. 主機(jī)尺寸：430*315*855mm
30.整機(jī)體積：0.6方，重：77KG