法國KLOE公司在光刻方面有著豐富的經(jīng)驗,其研發(fā)的UV- KUB微流控芯片光刻機/曝光機系列光刻機是一種基于UV LED的曝光機系統(tǒng),結(jié)構(gòu)緊湊,可以直接放置在實驗臺上,能夠處理大直徑4英寸的晶圓,兼容硬接觸(接觸式)或者軟接觸(接近式)工藝,可自動調(diào)整掩膜高度以適應(yīng)不同的基板厚度,可使用365 nm或405 nm的光源,不需要預(yù)熱,也不需要單獨的冷卻單元。另外,UV-KUB系列*的設(shè)計,保證了光源的準(zhǔn)直性和均勻性,其小分辨率可達(dá)2μm,大發(fā)散角小于2°
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