隨著國內(nèi)半導(dǎo)體自主化產(chǎn)業(yè)高速發(fā)展，晶圓CMP化學(xué)機(jī)械拋光工藝的精細(xì)化管控水平，直接決定國產(chǎn)芯片制造品質(zhì)與產(chǎn)能規(guī)模，而過氧-化氫氧化劑濃度管控，是CMP制程工藝管控當(dāng)中最核心的一環(huán)。

拋光液內(nèi)部過氧-化氫含量失衡，是造成晶圓表面腐蝕、拋光不均、去除速率異常等不良品產(chǎn)生的主要誘因；而生產(chǎn)現(xiàn)場揮發(fā)溢出的過氧-化氫氣體，會持續(xù)破壞無塵潔凈車間生產(chǎn)環(huán)境，對光刻、離子注入、薄膜沉積等高精度制程造成不可逆影響，雙重風(fēng)險倒逼晶圓企業(yè)建立常態(tài)化濃度檢測機(jī)制。

科爾諾GT-1000便攜式過氧-化氫檢測儀，針對半導(dǎo)體無塵車間工況環(huán)境與CMP工藝檢測痛點(diǎn)深度研發(fā)，硬件配置、外觀結(jié)構(gòu)、功能邏輯全部貼合晶圓工廠實(shí)際生產(chǎn)需求。

儀器采用低濃度高靈敏電化學(xué)傳感核心，可精準(zhǔn)識別車間ppb級微量揮發(fā)氣體，高量程版本可直接匹配拋光液高濃度組分檢測需求；整套采樣氣路采用半導(dǎo)體專用特氟龍材質(zhì)，耐氧化、低吸附、無雜質(zhì)析出，嚴(yán)格保障高純度檢測環(huán)境不受污染。

在實(shí)際現(xiàn)場工藝管理當(dāng)中，工作人員可嚴(yán)格按照標(biāo)準(zhǔn)化流程完成定點(diǎn)定時采樣檢測，單點(diǎn)位持續(xù)采樣5分鐘采集平均濃度與峰值濃度，真實(shí)反映現(xiàn)場濃度真實(shí)狀態(tài)；依托設(shè)備數(shù)據(jù)導(dǎo)出功能，長期匯總濃度數(shù)據(jù)，梳理工藝波動規(guī)律，持續(xù)優(yōu)化拋光液配比、機(jī)臺排風(fēng)效率、清洗工藝參數(shù)。

整機(jī)IP67高防護(hù)結(jié)構(gòu)，無凹凸積塵結(jié)構(gòu)，日常使用無塵布即可快速完成清潔消殺，契合無塵車間日常管理標(biāo)準(zhǔn)；長續(xù)航設(shè)計可滿足廠區(qū)多棟廠房、多條產(chǎn)線不間斷巡檢工作，大幅提升廠區(qū)工藝巡檢與環(huán)境安防工作效率，是半導(dǎo)體企業(yè)完-善CMP制程質(zhì)控體系、筑牢無塵車間環(huán)境安全防線的核心配套檢測設(shè)備。