真空鍍膜機采用箱式結(jié)構(gòu),抽氣系統(tǒng)后臵,便于拆卸和維修。整機表面平整,便于清潔,適合凈化間安裝。蒸發(fā)室全部采用不銹鋼制造,外有可通冷、熱水的護(hù)罩,可對壁進(jìn)行加熱(熱水器選配)或冷卻。本設(shè)備適用于鍍制各種多層光學(xué)薄膜和電學(xué)膜,是有關(guān)工廠、研究院和大專院校進(jìn)行生產(chǎn)和科研的理想設(shè)備。
開機準(zhǔn)備階段:
先開啟水泵、氣源,確認(rèn)冷卻水、氣壓供應(yīng)正常,再打開設(shè)備總電源。
開啟維持泵和真空計電源,將真空計調(diào)至V1檔位,等待約5分鐘,直到真空計數(shù)值降到10以下,再進(jìn)行下一步。
安裝待加工工件:確認(rèn)所有控制開關(guān)處于“關(guān)”位置,拉出低壓閥,打開充氣閥,無氣流聲后升起鐘罩;清潔腔體,將基片、靶材安裝固定好,檢查無誤后落下鐘罩,關(guān)閉真空門。
抽真空階段:
開啟冷卻水,啟動擴散泵進(jìn)行預(yù)熱,預(yù)熱時間約40分鐘。
啟動機械泵開始預(yù)抽真空,將低壓旋鈕轉(zhuǎn)至2區(qū)段測量位,觀察低真空表,當(dāng)指針移動至約6.7-7Pa時,打開高壓閥。
若使用渦輪分子泵機型,預(yù)抽至真空度小于2Pa后,切換真空計至V2檔位,等待分子泵讀數(shù)到250以上,關(guān)閉預(yù)抽,打開前級閥和高真空閥繼續(xù)抽真空。
持續(xù)抽真空直到真空度達(dá)到工藝要求:普通蒸發(fā)鍍膜需達(dá)到0.1Pa以下,電子槍鍍膜需要達(dá)到2×10^-3Pa以下才可開啟電子槍電源。
鍍膜操作階段:
確認(rèn)真空度達(dá)標(biāo)后,根據(jù)鍍膜工藝調(diào)整參數(shù):蒸發(fā)鍍膜需逐步調(diào)升加熱電流,觀察靶材加熱狀態(tài);磁控濺射需調(diào)整功率、氣體流量等參數(shù)。
以常見的鋁絲蒸鍍?yōu)槔寒?dāng)鎢螺旋加熱子變?yōu)辄S橙色、鋁絲開始熔化時,移開擋板開始蒸發(fā);鋁絲完全蒸發(fā)后,將擋板復(fù)位,調(diào)回調(diào)壓器至零位,單次蒸鍍完成。
鍍膜過程中隨時監(jiān)測真空度、溫度、膜厚等參數(shù),穩(wěn)定后保持工藝參數(shù)直至鍍膜達(dá)到要求厚度。
關(guān)機收尾階段:
鍍膜完成后,按順序關(guān)閉設(shè)備:先關(guān)閉靶電源、電離真空計、高壓閥,再依次關(guān)閉擴散泵、機械泵、維持泵。
拉出低壓閥,向鐘罩充氣,充氣完成后升起鐘罩,取出加工完成的工件。
待擴散泵完全冷卻后,關(guān)閉冷卻水、總電源,清理設(shè)備腔體,做好使用記錄。若使用分子泵,需等待分子泵頻率降為0后再執(zhí)行關(guān)機操作。