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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
感應(yīng)耦合電漿蝕刻是在標(biāo)準(zhǔn)反應(yīng)離子蝕刻（RIE）的基礎(chǔ)上，添加電感耦合電漿的。感應(yīng)耦合電漿由磁場(chǎng)圍繞石英晶體管所提供。產(chǎn)生的高密度電漿被線圈包圍，將充當(dāng)變壓器中的次級(jí)線圈，加速電子和離子，從而引起碰撞，產(chǎn)生更多的離子和電子。
詳細(xì)介紹
感應(yīng)耦合電漿蝕刻（ICP）蝕刻是在標(biāo)準(zhǔn)反應(yīng)離子蝕刻（RIE）的基礎(chǔ)上，添加電感耦合電漿的。感應(yīng)耦合電漿由磁場(chǎng)圍繞石英晶體管所提供。產(chǎn)生的高密度電漿被線圈包圍，將充當(dāng)變壓器中的次級(jí)線圈，加速電子和離子，從而引起碰撞，產(chǎn)生更多的離子和電子。
高密度的電漿和低真空度增強(qiáng)了具有非等向性的高蝕刻速率。可以根據(jù)製程要求通過調(diào)節(jié)來自射頻發(fā)生器的直流偏壓來控制離子和電子能量。
SYSKEY的系統(tǒng)可以精準(zhǔn)的控制製程氣體與電漿製程，並提供高精準(zhǔn)度的薄膜蝕刻。
感應(yīng)耦合電漿蝕刻參數(shù)
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 腔體 |
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| 配置和優(yōu)點(diǎn) | 選件 |
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