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產(chǎn)品簡(jiǎn)介 GD-Profiler 2射頻輝光放電光譜儀是一款可進(jìn)行超快鍍層分析的理想工具，非常適合于導(dǎo)體（和/或）非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析。可分析70多種元素，其中包括C、H、O、N和Cl。一次測(cè)試可輕松獲取鍍層元素深度分布、鍍層厚度、鍍層均一性及表面/界面等信息。 詳情介紹 GD-Profiler 2射頻輝光放電光譜儀 是一款可進(jìn)行超快鍍層分析的理想工具，非常適合于導(dǎo)體（和/或）非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析?？煞治?0多種元素，其中包括C、H、O、N和Cl。一次測(cè)試可輕松獲取鍍層元素深度分布、鍍層厚度、鍍層均一性及表面/界面等信息。 GD-Profiler 2可分析幾納米到200微米的深度，深度分辨率小于1納米。GD-Profiler 2采用了脈沖式射頻輝光源，可有效分析熱導(dǎo)性能差以及熱敏感的樣品。此外，還采用了多項(xiàng)技術(shù)，如高動(dòng)態(tài)檢測(cè)器（HDD）可測(cè)試ppm-100%的濃度范圍，Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。主要應(yīng)用領(lǐng)域包括鍍鋅鋼板、彩涂板、新型半導(dǎo)體材料、LED晶片、硬盤(pán)、有機(jī)鍍層、鋰電池、玻璃、陶瓷等等。 GD-Profiler 2射頻輝光放電光譜儀技術(shù)參數(shù)： 1、射頻發(fā)生器-標(biāo)準(zhǔn)配置、復(fù)合D級(jí)標(biāo)準(zhǔn)、穩(wěn)定性高、濺射束斑為平坦、等離子體穩(wěn)定時(shí)間短，表面信息無(wú)任何失真。 2、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜，也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。 3、Polyscan多道（同時(shí)）光譜儀可全譜覆蓋，光譜范圍從110nm-800nm，可測(cè)試遠(yuǎn)紫外元素C、H、O、N和Cl。 4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有zui大的光通量，因而擁有的光效率和靈敏度。 5、高動(dòng)態(tài)檢測(cè)器（HDD）可快速、高靈敏的檢測(cè)ppm-100%含量的元素。動(dòng)態(tài)范圍為5×10 10 。 6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。 7、功能*的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測(cè)報(bào)告。 8、HORIBA*的單色儀（選配）可大地提高儀器靈活性，可實(shí)現(xiàn)固定通道外任意一個(gè)元素的同步測(cè)試，稱為n+1。 9、適用于ISO14707和16962標(biāo)準(zhǔn)。 更多指標(biāo)參數(shù)請(qǐng)?jiān)L問(wèn)HORIBA 上一篇： OpenPlex開(kāi)放式表面等離子體共振成像儀 下一篇： Profiler HR射頻輝光放電光譜儀