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KAIJO楷捷超聲波清洗應(yīng)用領(lǐng)域:半導(dǎo)體晶圓、硅晶片、復(fù)合晶片、太陽能電池、HDD(媒體、基板和組件)、磁頭、平板顯示、玻璃、藍(lán)寶石、水晶印刷電路板、膜、陶瓷、橡膠、樹脂模塑制品、汽車、電子、醫(yī)療、加工、精密零件、沖壓零件、模具、金屬零件。
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日本kaijo光刻膠剝離點(diǎn)狀噴淋超聲波清洗機(jī)產(chǎn)品參數(shù)
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 3萬-5萬 |
| 儀器種類 | 通用型 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子/電池,電氣,綜合 |
日本kaijo光刻膠剝離點(diǎn)狀噴淋超聲波清洗機(jī)詳細(xì)信息
日本kaijo光刻膠剝離點(diǎn)狀噴淋超聲波清洗機(jī)
日本kaijo光刻膠剝離點(diǎn)狀噴淋超聲波清洗機(jī)
這是一款搭載中頻（200kHz）超聲波的點(diǎn)狀噴淋型單片刻洗設(shè)備（枚葉用）。
KAIJO的技術(shù)實(shí)力將200kHz中頻超聲波與清洗液結(jié)合，實(shí)現(xiàn)了高性能的噴淋清洗。
KAIJO的技術(shù)實(shí)力將200kHz中頻超聲波與清洗液結(jié)合，實(shí)現(xiàn)了高性能的噴淋清洗。
核心特點(diǎn)
- 中頻200kHz：介于常規(guī)超聲波（28-40kHz）和兆聲波（430kHz+）之間的中間頻率
- 強(qiáng)力清洗：相比兆聲波，200kHz有更強(qiáng)的物理清洗力，同時(shí)保持較低的空化損傷
- 繼承QUAVA高性能：專為單片（枚葉）晶圓清洗優(yōu)化
主要應(yīng)用
- 光刻膠剝離（レジスト剝離）：去除光刻后的膠層
- 蝕刻后殘?jiān)コ?/span>（エッチング後の殘?jiān)呵宄煞?濕法蝕刻后的殘留物
- 其他需要較強(qiáng)物理清洗力的單片清洗工藝
技術(shù)規(guī)格
■ 工作頻率
| 參數(shù) | 規(guī)格 |
|---|---|
| 標(biāo)稱頻率 | 200 kHz |
| 發(fā)生器可調(diào)范圍 | 40 - 250 kHz（寬范圍連續(xù)可調(diào)） |
信號(hào)發(fā)生器（発振器）詳細(xì)規(guī)格（20110型 / QT-017型）
| 項(xiàng)目 | 規(guī)格 |
|---|---|
| 型號(hào) | 20110（QT-017）型 |
| 頻率范圍 | 40 - 250 kHz（連續(xù)可調(diào)，覆蓋中頻區(qū)） |
| 標(biāo)稱工作頻率 | 200 kHz |
| 輸出 | 50W* |
| 最小輸出 | 1W |
| 輸出調(diào)節(jié)精度 | 0.1W步進(jìn)微調(diào) |
| 顯示 | 4位數(shù)字顯示 |
| 振蕩方式 | PLL振蕩、A模式 |
| 頻率跟蹤 | 軟件自動(dòng)跟蹤PLL方式 |
| 電源 | AC100～240V 250VA 單相50/60Hz（寬電壓） |
| 遠(yuǎn)程控制 | 支持與上位計(jì)算機(jī)（Host PC）相互通信及遠(yuǎn)程功率變更 |
| 軟啟動(dòng) | 搭載Soft Start功能，防止啟動(dòng)沖擊 |
| 免調(diào)整設(shè)計(jì) | 更換振動(dòng)子時(shí)無需重新調(diào)整信號(hào)發(fā)生器 |
| 外部接口 | 遠(yuǎn)程端子、外部輸出控制、強(qiáng)制停止端子、綜合報(bào)警端子、模擬輸出（4-20mA） |
| 保護(hù)功能 | 輸出異常報(bào)警、振動(dòng)子異常報(bào)警、發(fā)熱異常報(bào)警 |
| 外形尺寸 | 218（W）×258（D）×138（H）mm |
注*：輸出功率和頻率會(huì)根據(jù)所連接的振動(dòng)子型號(hào)自動(dòng)限制和控制。
技術(shù)優(yōu)勢(shì)與應(yīng)用對(duì)比
| 特征 | 200kHz（本設(shè)備） | 430/950kHz（高頻版） | 28-40kHz（常規(guī)超聲） |
|---|---|---|---|
| 清洗機(jī)制 | 中頻空化+聲流 | 主要聲流加速度 | 強(qiáng)力空化氣泡破裂 |
| 損傷性 | 低 | 極低（幾乎無空化） | 較高（可能損傷圖案） |
| 去除力 | 強(qiáng)（適合去膠/去渣） | 中等（適合微粒去除） | （但損傷風(fēng)險(xiǎn)大） |
| 適用工藝 | 光刻膠剝離、蝕刻后清洗 | 納米顆粒去除、精密清洗 | 粗洗、重度污染去除 |
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