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KAIJO楷捷超聲波清洗應用領域:半導體晶圓、硅晶片、復合晶片、太陽能電池、HDD(媒體、基板和組件)、磁頭、平板顯示、玻璃、藍寶石、水晶印刷電路板、膜、陶瓷、橡膠、樹脂模塑制品、汽車、電子、醫(yī)療、加工、精密零件、沖壓零件、模具、金屬零件。
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日本kaijo晶圓液晶面板高頻超聲波清洗機產品參數
| 產地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 2萬-5萬 |
| 應用領域 | 化工,電子/電池,電氣,綜合 |
日本kaijo晶圓液晶面板高頻超聲波清洗機詳細信息
日本kaijo晶圓液晶面板高頻超聲波清洗機
日本kaijo晶圓液晶面板高頻超聲波清洗機
產品名稱
ハイメガソニック クオーバ洗浄機（Hi-Mega Sonic Quauva清洗機）
英文名稱：High-Megasonic Quauva Cleaning System
技術原理
高頻超聲波清洗（メガソニック洗浄 / Megasonic Cleaning）
核心特點
| 參數 | 規(guī)格 |
|---|---|
| 工作頻率 | 750 kHz / 950 kHz（兆聲波頻段） |
| 清洗機制 | 主要依靠聲流加速度進行清洗 |
| 空化現象 | 幾乎不產生空化（Cavitation-free） |
| 損傷控制 | 無空化侵蝕（無Erosion/Damage） |
| 均勻性 | 無駐波造成的清洗不均（Standing wave-free） |
技術優(yōu)勢
■ 清洗原理差異
| 普通超聲波 | 本設備（兆聲波） |
|---|---|
| 依賴空化氣泡破裂產生沖擊力 | 依賴高頻聲流加速度帶動液體流動 |
| 可能損傷精密表面 | 零損傷清洗 |
| 易產生駐波導致的清洗條紋 | 均勻無條紋清洗 |
■ 應用領域
- 半導體晶圓（Si Wafer）的納米顆粒去除
- 液晶面板（LCD Glass）精密清洗
- HDD硬盤（磁頭、盤片）微粒去除
- 其他需要納米級潔凈度的精密部件
這是一款面向半導體、液晶、HDD等制造領域的無損傷精密清洗設備，通過750kHz/950kHz超高頻兆聲波技術，在去除納米級微粒的同時不損傷基板表面，是下一代超精密清洗的核心設備。
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內容聲明：
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