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賽默飛世爾科技（紐約證交所代碼：TMO）是科學(xué)服務(wù)領(lǐng)域的世界*。進(jìn)入中國發(fā)展已有30余年，產(chǎn)品主要包括分析儀器、實(shí)驗(yàn)室設(shè)備、試劑、耗材和軟件等。
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EscaLabXi+ X射線光電子能譜儀產(chǎn)品參數(shù)
| 價(jià)格區(qū)間 | 100萬-120萬 | 儀器種類 | 進(jìn)口 |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,石油,地礦,道路/軌道/船舶 |
EscaLabXi+ X射線光電子能譜儀詳細(xì)信息
描述
ESCALAB XI配備了微聚焦單色化X射線源，旨在提供*的XPS分析性能+X射線光電子能譜儀能滿足大吞吐量樣品測試需求多技術(shù)能力、一系列靈活的樣品制備室及樣品處理設(shè)備，使該儀器在解決任何表面分析問題時(shí)都能游刃有余。利用*的 Avantage 數(shù)據(jù)采集和處理系統(tǒng)，從測試數(shù)據(jù)中挖掘盡可能多的信息。
The ESCALAB XI+ X-ray Photoelectron Spectrometer (XPS) Microprobe Features:
高靈敏度能譜
小面積 XPS
深度剖析能力
角分辨 XPS
標(biāo)配離子散射能譜 (ISS)功能
標(biāo)配反射電子能量損失譜 (REELS)功能
標(biāo)配“樣品預(yù)處理”室
多技術(shù)分析的多功能性
多個(gè)樣品制備技術(shù)可選
全自動無人值守式分析
多樣品分析
單色化X射線源
雙晶體微聚焦單色器配備一個(gè) 500 mm 直徑的羅蘭圓，使用鋁陽極靶
樣品 X 射線光斑尺寸可選擇范圍為 200 至 900 μm
透鏡、分析儀和檢測器
透鏡、分析儀和檢測器構(gòu)成XPS檢測系統(tǒng)+XPS光譜儀在成像和微區(qū)方面的分析能力都是獨(dú)yi無二的
兩種類型的檢測器可以確保為每種分析提供zuijia檢測——用于成像的二維檢測器和適用于高計(jì)數(shù)率檢測的電子倍增器
透鏡配備了兩個(gè)電腦控制的虹膜機(jī)構(gòu) - 一個(gè)允許用戶將透鏡的視野控制在<20μm以下進(jìn)行微區(qū)分析，另一個(gè)控制透鏡的接收角度，以便獲得高質(zhì)量角度分辨數(shù)據(jù)
180° 半球型能量分析器
深度剖析
數(shù)控式 EX06 離子槍是一款高性能的離子源，哪怕在使用低能離子源時(shí)也有著很好的性能
提供方位角樣品旋轉(zhuǎn)
多技術(shù)能力
可配備其他分析技術(shù)而不降低 XPS 檢測性能
使用 EX06 離子槍時(shí)透鏡組和能量分析儀的電源可反向（確保離子散射能譜 (ISS) 可用）
電子槍可加壓升至 1000 V，為 REELS 提供優(yōu)異的離子源
技術(shù)選項(xiàng)
非單色化 X 射線光源的XPS分析
AES（俄歇電子能譜）
UPS（紫外光電子能譜）
真空系統(tǒng)
5 mm 厚高導(dǎo)磁?金屬分析室，zui大程度提高磁屏蔽效率
與使用內(nèi)部或外部屏蔽的方法相比，屏蔽效能更佳
樣品制備
系統(tǒng)標(biāo)配一體化的快速進(jìn)樣室和制備室
額外的制備室可選
Avantage 數(shù)據(jù)系統(tǒng)
集成了測試分析的所有方面，包括儀器控制、數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)處理和報(bào)告生成
允許遠(yuǎn)程控制，并且可輕松與第三方軟件交互（例如 Microsoft Word）
管理從樣品載入到報(bào)告導(dǎo)出的整個(gè)分析過程
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內(nèi)容聲明：
您訪問的EscaLabXi+ X射線光電子能譜儀產(chǎn)品信息，由鴻華科技有限公司自行發(fā)布提供，產(chǎn)品價(jià)格為面議，如您想了解更多關(guān)于EscaLabXi+ X射線光電子能譜儀型號、參數(shù)、用途等信息，歡迎咨詢。
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