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2944
上海市
2026/6/17 7:38:04
產品簡介
| 產地類別 | 進口 | 應用領域 | 電子/電池,綜合 |
這款來自美國的微型磁控濺射系統(tǒng)滿足研究所和研發(fā)部門對真空薄膜沉積的性能要求,占用空間小,具有超高的性價比,可以向客戶提供優(yōu)質的服務。
參考:
磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣,在陰極(柱狀靶或平面靶)和陽極(鍍膜室壁) 之間施加幾百K 直流電壓,在鍍膜室內產生磁控型異常輝光放電,使氬氣發(fā)生電離。
優(yōu)勢特點
常用的制備磁性薄膜的方法是磁控濺射法。氬離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面,將靶材表面原子濺射出來沉積在基底表面上形成薄膜。通過更換不同材質的靶和控制不同的濺射時間,便可以獲得不同材質和不同厚度的薄膜。磁控濺射法具有鍍膜層與基材的結合力強、鍍膜層致密、均勻等優(yōu)點。
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移動站:微型磁控濺射鍍膜設備
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